7月17日机锋资讯，全球光刻机龙头ASML（阿斯麦）宣布，其研发的全球首台第二代高数值孔径（High NA）极紫外光刻机（EUV）TWINSCAN EXE:5200B已完成交付。

此次交付的首台EXE:5200光刻机买家是英特尔，这台设备的售价近30亿元。

据悉，第二代High NA EUV光刻机采用0.55数值孔径光学系统，通过双标线曝光设计，将微缩分辨率提升至8nm级别，较初代0.33 NA EUV设备性能提升70%。其核心参数包括：晶圆吞吐量每小时可处理175片晶圆，较初代High NA机型提升15%；工艺适配性支持2nm以下先进制程，可满足未来AI芯片、量子计算等高算力需求；结构优化方面，整机重量达180吨，需7架波音747货机运输，装机需250名工程师耗时6个月完成。

尽管ASML在技术上占据领先地位，但第二代High NA EUV光刻机的商业化进程仍面临很多难题。

2025年第二季度，ASML新增订单55亿欧元，其中EUV设备占比42%（23亿欧元）。但区域销售呈现出“台积电领跑、三星收缩”的格局。中国台湾地区以35%的销售额跃居首位，这与台积电加速2nm工艺部署密切相关；而韩国市场占比骤降至19%，反映出三星、SK海力士等韩国企业在资本支出上的收缩态势。

美国对华技术封锁及关税政策导致ASML面临多重风险，包括整机出口关税、在美制造部件税费、服务零部件关税及跨国贸易反制关税等。ASML CFO戴厚杰透露，若美国对欧洲商品加征30%关税，EUV光刻机单价将从2.5亿欧元涨至3.25亿欧元，这将直接推高客户的采购成本，影响设备的市场推广。