自从全球陷入缺芯危机之后，老美就开始寻求各种方式对我国半导体产业进行打压限制，其中一种限制方式就是不让阿斯麦向我国出口光刻机。由于阿斯麦几乎垄断了全球光刻机市场，买不到生产芯片所需的光刻机，使得国内半导体产业遭受到严重打击。

为了冲破限制，咱们被迫走上了自研光刻机的道路。经过几年的不懈努力，国产DUV光刻机不久后将会正式推出。看到咱们的成就后，早前老美放开了DUV光刻机出口限制，允许阿斯麦自由向国内进行出口设备，但是更加高端，也是咱们最需要的EUV光刻机仍然在限制出口名单之中。

根据生产制造7纳米及以下工艺芯片需要EUV光刻机支持这一观点，没有EUV光刻机，意味着国产芯片将被卡在7纳米工艺这样关键点。即使国内中芯国际制程工艺达到7纳米及以下，也无法生产出相应制程芯片。但是近期台积电一位专家的发言却打破了没有EUV光刻机无法生产高制程芯片这一说法。

EUV光刻机并非必需品

近期，台积电的前技术大佬林本坚表示，台积电早前在没有EUV光刻机仅有DUV光刻机情况下，凭借着多重曝光技术生产出过第一代7纳米工艺芯片，有了阿斯麦EUV光刻机支持后，才正式推出第二代7纳米工艺芯片，并且凭借着DUV光刻机和多重曝光技术做到5纳米工艺也不是不可能的事，只要难度大，生产成本高，一般情况不会采用这种方式。

对于林本坚这个前台积电技术研发大佬，相信不少人都听说过。他早年在IBM工作22年，在2000年时被蒋尚义招纳进入台积电从事技术研发工作；2002年他提出了沉浸式光刻技术，当年阿斯麦就是采用了林本坚这一技术，才实现了对日本尼康光刻机的超越，为其日后垄断全球光刻机行业打下基础。现在阿斯麦和台积电关系这么好，除了老美的支持和当年张忠谋慧眼识珠为其提供过资金支持外，林本坚的技术帮助也功不可没。现在沉浸式光刻技术依然被阿斯麦使用着。

林本坚这位技术大佬的发言意味着生产7纳米甚至5纳米工艺芯片，EUV光刻机并非必需品。打破了早前没有EUV光刻机无法生产7纳米及以下高制程芯片说法，同时也意味着中芯国际或许凭借着DUV光刻机和多重曝光技术就可以制造出7纳米芯片。

其实对于生产7纳米及以下高制程工艺芯片，EUV确实不是唯一选择，只能说是最佳选择，EUV光刻机只是在生产高制程芯片方面技术难度要更低，良品率要更高。条条大路通罗马，去年日本的铠侠及相关半导体企业就自研推出了一种名为纳米压印微影（NIL）量产技术，可以实现对EUV光刻机的替代。目前铠侠已经掌握15纳米芯片量产技术，预计将在2025年实现对5纳米芯片量产，未来或许还将能实现对更高制程工艺的支持，所以说EUV光刻机不是不可替代的。

并且有意思的是在林本坚表示EUV光刻机非必需品之前，阿斯麦宣布将从今年起开始大幅提高EUV光刻机产能，今年年产55台，明年年产60台，至2025年将EUV产能占比提高到60%，代表着阿斯麦每出口10台光刻机有6台都是EUV光刻机。

虽然全球缺芯背景下，各大厂家都在建厂扩产，还有一些厂家对工艺进行产能升级，它们都需求EUV光刻机，提高产能是绝对明智选择，但是阿斯麦这一举动多少都有些防备日本铠侠纳米压印微影技术，以及中芯国际通过使用DUV光刻机及多重曝光技术生产出7纳米工艺芯片的意思。

毕竟铠侠技术能够取代EUV光刻机已经得到初步验证，而林本坚说的技术，早前台积电也成功过。这种方式，中芯国际已经离职的蒋尚义肯定是知晓的。虽然梁孟松离开台积电的时候台积电还没有进行7纳米研发，但是对于此技术应该是了解的，至于为何一直没有进行此技术研发推广就不得而知了。现在梁孟松正在带领台积电采用N+1、N+2方式进行技术开发，去年有消息称7纳米芯片会进行风险量产，但是最终也没有消息流出，是否成功不得而知。

总结

高制程芯片生产，虽然EUV光刻机是非必需的，但是就目前而言国内对于EUV光刻机需求还很大，自主研发的国产EUV光刻机还遥遥无期，日本的纳米压印微影技术由于老美存在也很难使用上，对于咱们来说目前最好方式就是走自研技术道路，不管是台积电的7纳米生产技术，还是梁孟松的N+1，N+2技术，都要进行积极尝试才行。（百度）